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硅化钒

硅化钒 结构式

化学性质

熔点1677 °C
密度4.420
溶解度溶于HF
形态金属棱状
颜色金属棱状晶体
电阻率 (resistivity)9.5 (ρ/μΩ.cm)
水溶解性soluble HF [KIR83]
晶体结构Hexagonal
EPA化学物质信息Vanadium silicide (VSi2) (12039-87-1)

安全信息

危险品标志Xi
危险类别码36/37
安全说明26-36
WGK Germany3
TSCATSCA listed
危险等级6.1

用途与合成方法

概述

硅化物是制备大规模集成电路的关键材料,用它可以作电路的欧姆接触、肖特基势垒和电极引线,超大规模集成电路结深很浅,如64 兆位的超大规模集成电路的PN 结深度浅到200nm ,在如此浅结表面用常规的方法制备电极引线,经常导致PN 结穿通,使电路失效,为此则需要制备薄层硅化物,其中硅化钒是一种最好的选择。

用途

硅化物是制备大规模集成电路的关键材料,用它可以作电路的欧姆接触、肖特基势垒和电极引线,超大规模集成电路结深很浅.硅化钒的主要用途如下:1.制备硅化钒薄膜。2.制备一种吸声陶瓷材料。

生产方法

在一直流等离子电弧炉中,加热V和Si的单质粉末。

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