高纯二氯二氢硅(DCS)
时间:2026-07-16 09:45 作者:system 点击:次
用途与合成方法简介高纯二氯二氢硅(DCS)是一种新型硅源气体,用于硅外延和集成电路上各种含硅薄膜的制备。主要用在低温薄层减压外延的膜生长,具有生长速率快、结晶质量好特点,是线宽很窄的VLSI工艺中的首选硅源材料。 |
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用途与合成方法简介高纯二氯二氢硅(DCS)是一种新型硅源气体,用于硅外延和集成电路上各种含硅薄膜的制备。主要用在低温薄层减压外延的膜生长,具有生长速率快、结晶质量好特点,是线宽很窄的VLSI工艺中的首选硅源材料。 |