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四氟化锗

四氟化锗 结构式

化学性质

熔点−36.5 °C(lit.)
沸点-36,5°C
密度2.126 g/mL at 0 °C(lit.)
溶解度与H2O反应
形态无色气体
颜色无色
比重2.126
水溶解性soluble H2O [CRC10]
水解敏感性8: reacts rapidly with moisture, water, protic solvents
Merck13,4423
CAS 数据库7783-58-6(CAS DataBase Reference)
EPA化学物质信息Germane, tetrafluoro- (7783-58-6)

安全信息

危险品标志C,T
危险类别码34
安全说明26-36/37/39-45
危险品运输编号UN 3304 2.3
WGK Germany3
F21
TSCATSCA listed
危险等级2.3

用途与合成方法

理化性质

四氟化锗(GeF4)是一种锗的氟化物,分子量为148.63,无色、辛辣大蒜气味气体,空气中遇水产生大量白烟。常态下四氟化锗性质稳定,在水中发生水解,生成GeO2和H2GeF6。3GeF4+2H2O→GeO2+2H2GeF6。与无水氯化铝反应,交换了卤素之后生成四氯化锗。完全干燥的四氟化锗气体,不侵蚀玻璃,但能腐蚀汞和润滑脂。四氟化锗在半导体行业中用于掺杂和离子注入。四氟化锗结合乙硅烷气体,可以直接在玻璃基底上制造硅锗微晶。

用途

四氟化锗在半导体行业中用于掺杂和离子注入。四氟化锗结合乙硅烷气体,可以直接在玻璃基底上制造硅锗微晶。四氟化锗在化学工业中还可用于合成剂。

合成方法

(1)把氧化锗与过量的氟化钙及浓硫酸加热。 (2)六氟锗酸钡的热分解。 BaGeF6→BaF2+GeF4 把生成的气体用液体二硫化碳冷却到-112℃,除去挥发性杂质。

用途

近来,已结合乙硅烷气体将四氟化锗用于直接在玻璃基底上制造硅锗微晶。锗和硅纳米晶体可发出强烈的可见光,因其在光电器件中的潜在应用价值而倍受关注。
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