化学性质
| 熔点 | 242 °C |
| 沸点 | 546.04°C (rough estimate) |
| 密度 | 1.4353 (rough estimate) |
| 折射率 | 1.5300 (estimate) |
| 酸度系数(pKa) | 0.70±0.10(Predicted) |
| 稳定性 | 吸湿性 |
| InChI | InChI=1S/C10H28N2O12P4/c13-25(14,15)7-11(8-26(16,17)18)5-3-1-2-4-6-12(9-27(19,20)21)10-28(22,23)24/h1-10H2,(H2,13,14,15)(H2,16,17,18)(H2,19,20,21)(H2,22,23,24) |
| InChIKey | KIDJHPQACZGFTI-UHFFFAOYSA-N |
| SMILES | N(CCCCCCN(CP(=O)(O)O)CP(=O)(O)O)(CP(=O)(O)O)CP(=O)(O)O |
| EPA化学物质信息 | Phosphonic acid, [1,6-hexanediylbis[nitrilobis(methylene)]]tetrakis- (23605-74-5) |
安全信息
| WGK Germany | 1 |
| RTECS号 | SZ8560500 |
| TSCA | TSCA listed |
| 毒性 | rabbit,LD50,skin,> 7940mg/kg (7940mg/kg),BEHAVIORAL: SOMNOLENCE (GENERAL DEPRESSED ACTIVITY)BEHAVIORAL: FOOD INTAKE (ANIMAL),Acute Toxicity Data. Journal of the American College of Toxicology, Part B. Vol. 1, Pg. 99, 1990. |
用途与合成方法用途常温下HDTMPA为白色结晶性粉末,微溶于水,其溶解度在室温下小于5%。 HDTMPA能抑制各种水垢（如碳酸钙垢、硫酸钙垢、硫酸钡垢和氧化铁垢等）的生成，但在水处理中主要用来阻抑硫酸钙和硫酸钡垢。在各种有机磷酸中，其阻硫酸钙垢的性能最好，不仅阻垢率高，有效时间长，因此特别适用于油田的挤压处理中。HDTMPA也可用于锅炉水处理中。用途主要用来合成有机硅化合物生产方法
1.在装有密封的搅拌器、回流冷凝器、滴液漏斗的反应瓶中加入1mol无水己二胺，去离子水8mol（144g），4mol甲醛，搅拌并冷却至30℃以下，缓慢滴加4mol三氯化磷，控制反应温度在30～40℃，反应中有氯化氢逸出。保持体系中三氯化磷和的摩尔比为1:4.5，当三氯化磷加完后，将温度缓慢升110℃，回流反应即得液体。此液即可作为阻垢剂用于循环冷却水。如果制取固体产品，可将反应液慢慢滴入无水乙醇中，即有白色沉淀析出，滤去乙醇，即得固体产品。
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